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制樣設備
IB-19520CCP截面樣品制備裝置
IB-19520CCP截面樣品制備裝置在加工過程中利用液氮冷卻,能減輕離子束對樣品造成的熱損傷。冷卻持續(xù)時間長、液氮消耗少的構造設計。在裝有液氮的情況下,也能將樣品快速冷卻、恢復到室溫,并且可以拆卸。配有傳送機構,在隔離空氣的環(huán)境下能完成從加工到觀察的全過程。
品牌 | 其他品牌 | 供貨周期 | 兩周 |
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應用領域 | 化工,電子,綜合 |
IB-19520CCP截面樣品制備裝置★ 冷卻的效果 樣品:鍍鋅鋼板
可提供500μm/h(8KV/2小時的平均值)的研磨速率
Specimen: Galvanized iron steel | |
![]() Normal milling (without cooling) Accelerating voltage 4kV | ![]() Cooled milling (holder temperature -120℃) Accelerating voltage 4kV |
※通常加工(無冷卻)時,鐵和鋅的接合面上能夠觀察到間隙,而冷卻加工時則沒有間隙。
★使用溫度控制系統(tǒng)(選配件)冷卻樣品:硅晶片接合面。
Normal milling Cooling Cooling temperature control
(without cooling) (holder temperature -150℃) (holder temperature -20℃)
Accelerating voltage 6kV Accelerating voltage 6kV Accelerating voltage 6kV
※常規(guī)加工由于熱損傷造成粘合劑變形,出現(xiàn)了很大的間隙。-150℃時,冷卻過度,能觀察到膠粘劑和硅晶片研磨面的接合面上出現(xiàn)了間隙,但通過溫度控制冷卻則沒有間隙。
★合理利用間歇加工、冷卻功能和溫度控制冷卻功能可支持各種樣品的制備。
★進程監(jiān)控功能:截面加工狀態(tài)可通過CCD相機實時監(jiān)控,倍率還可調整。
★防止充放電的噴鍍功能:備有離子束濺射功能(選配項)可以噴涂顆粒感良好的薄涂層。適合于象EBSD等需要花樣識別等情況。
★平面離子減薄樣品架以小角度的離子束低角度照射樣品,達到清除表面污垢、平滑表面等效果。
另外也非常適合于選擇性蝕刻。
★截面樣品制備單元安裝在平面離子減薄樣品架上使用。該單元可用于在旋轉樣品的同時進行離子束加工。
可以用來制備象多孔質材料、粉末、纖維等容易出現(xiàn)加工條紋的樣品的截面。
IB-19520CCP截面樣品制備裝置